Исследования Джона Бёрнета и Саймона Каплана из Национального института стандартов и технологий США (NIST), по-видимому, позволят разработать эффективную оптику для так называемой жидкостной литографии (liquid immersion). Эта технология, давно предложенная и, со временем, подзабытая, недавно вновь привлекла внимание специалистов. Ее использование в предложенном американскими учеными варианте, возможно, позволит повысить разрешение изображения, которое наносится на кремниевую подложку чипов, что, в свою очередь, будет способствовать уменьшению размеров микросхем.Использующиеся в настоящее время средства оптической литографии позволяют достичь 100-нанометрового разрешения нанесенного на кремниевую подложку изображения. Дальнейшей "детализации" картинки мешают физические и технические ограничения, преодолеть которые чрезвычайно сложно. Однако размещение между подложкой и конечными оптическими элементами микроскопических капелек жидкости, обладающей необходимыми свойствами, позволяет увеличить разрешение до 65-нанометрового, а в дальнейшем станет возможным повышение разрешения до 45 и менее нанометров.По мнению ученых, такие жидкости должны будут обладать минимальным коэффициентом преломления. Американские исследователи сочли, что роль идеальных "жидкостных линз" сможет играть сверхчистая вода и разработали технологию, позволяющую ее эффективно использовать. К тому же, они продолжают сбор данных по другим подходящим жидкостям с наиболее привлекательными оптическими свойствами.